芯片行业新进展,首台n+1工艺光刻机大突破!国际社会这下被打脸了

2021-01-20 09:51:22 | 来源:腾讯 | 参与: 0 | 作者:科技创造生活

  

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  华为5G在业内业外闹得是沸沸扬扬,美国一招制裁更是让麒麟9999芯片成为“绝响”,不过如今中国可不再会被芯片行业给绊住腿脚了,中国芯片行业再传新进展,国产光刻机实现大突破,这回国际社会可就要被打脸了。

  近日,有消息称中国国产光刻机终于实现了重大突破,在高端光刻机领域终于实现了22nm精度的光刻机,首台n+1工艺的光刻机落地。想当初,中国芯片技术在国际社会上可是备受冷眼,甚至有荷兰专家还表示就算把技术图纸放在中国面前,中国都做不出来,如今可要被打脸了。

  虽然这个光刻机的精度和现在国际上最先进的荷兰可以达到5nm精度的光刻机并不能相比,甚至就连华为公司需要的7nm芯片同样无法制造。但是就中国早有的光刻机技术只能停留在28nm的程度还是一件十分令人惊喜的消息,毕竟饭要一口一口慢慢吃,芯片自然也要一点一点慢慢做。

  光刻机和芯片行业有什么关系?之前不是有说中芯研制出来7nm芯片的消息吗?

  其实关于这个小标题应该是很多人的疑问了,毕竟在不了解内情的人看来,怎么越研制还越倒退呢?其实并不是如此,中芯研制的是如何制造7nm芯片的技术,也确实十分重要,但是在这个基础上还要求有这个芯片是可以制造得出来的。

  这就要说到光刻机了,光刻机作为芯片制造行业中的“璀璨明珠”其重要性就好比做饭,就算把食谱放在你面前,手残的一样做不出来,而这个光刻机就是制造芯片中最重要的手艺。只有高精度的光刻机,才有制造高端芯片的能力。

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