用冰竟然可以雕刻芯片!西湖大学取得重大突破

2020-12-21 08:57:12 | 来源:百度 | 参与: 0 | 作者:清风

  

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  图为光刻机制作芯片

  从2018年中美贸易战开始,芯片制造问题难以解决是美国卡住我们脖子重要原因,而中国要跨过的这个“大坎”就是加快国产光刻机的研发,但是短期内难以成功研发出来,只能通过其他方式弯道超车。

  近日传来一个好消息,浙江西湖大学副校长仇旻团队教授另辟蹊径,用“冰刻”代替“光刻”,在芯片制造工艺上取得了新的突破。

  作为该计划的领头人,仇旻教授从瑞典皇家工学院回国任教后,就带领团队展开了相关的研究,经过6年的艰苦奋斗,终于成功研发出了国内首台“冰刻”系统,而且目前系统功能更为强大的2.0版本也快来了。

  相比传统的“光刻”,“冰刻”又有什么优势呢?

  众所周知,目前的光刻机都是将电子束打在光刻胶上,但是碍于微纳器件的精细化发展缓慢,光刻胶很容易残留,非常难以清洗,从而阻止了芯片向高精度的方向发展。

  仇旻教授及其团队在试验中发现,当在零下130摄氏度左右的真空中,水蒸气和凝华成一层超级光滑的冰膜,这种冰膜就可以完美替代光刻胶。

  相比传统的光刻机,它具有高效清洁的优势,首先光刻机雕刻完后,剩下的冰会直接汽化消失,所以不存在需要清洁芯片的步骤,其次,可以大大简略制作流程,传统光刻机大致需要涂胶、曝光。

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