前有中科院,后有95后男生自己diy,中国光刻机不断取得新突破

2020-07-13 22:49:00 | 来源: | 参与: 0 | 作者:渡川

  

\

  图为中科院

  芯片,一直是中国互联网产业发展的一个痛点。而生产芯片的光刻机技术,被称为“工业上的皇冠”。

  由于我国芯片以及光刻机技术起步较晚,且受到西方国家的严格封锁,因此发展之路较为坎坷,令人忍不住担心:中国究竟何时能摘取这顶皇冠呢?继2018年4月美国对我国第二大电信公司中兴通讯实施出口禁令、10月美国商务部以国家安全为由禁止美国公司给我国芯片制造商晋华公司销售零部件,一直到今年5月15日美国商务部宣布新规,实施彻底切断华为全球芯片代工来源。

  种种行为都表明美国正在刻意阻碍中国芯片的发展,但是在如此艰难的背景下,中国芯片光刻机技术依然频频传来喜讯!

  据光明网报道,近日,中科院立了一件大功!5nm激光光刻研究获得突破性的进展。

  中科院苏州纳米所张子旸团队基于光热反应机理,设计开发了一种新型三层堆叠薄膜结构。所开发的5nm新型微纳加工技术在集成电路、光子芯片、MEMS等领域显示出广阔的应用前景。

  除了来自中科院的好消息,公众中也有专家。近日,一段大学生自制低成本光刻机的视频在网上火了起来!

  成功的半导体芯片生产技术主要有湿法清洗、光刻、离子注入、干法刻蚀、湿法刻蚀、等离子清洗、热处理、快速热退火、退火、热氧化、化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、分子束外延(MBE)等,电镀、化学/机械处理、晶圆测试和晶圆抛光只有成功后才能在工厂包装。

正在加载

精彩阅读

热点排行
  • 日排行
  • 周排行
评论排行
  • 周排行
  • 月排行

-->