可喜可贺,我国攻克芯片制造设备的难关!对我们的封锁又少了一个

2020-07-01 11:23:00 | 来源: | 参与: 0 | 作者:曲奇

  

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  CPU晶体管阵列

  在现今这个科技发达的时代,电子产品已经成为了我们日常生活不可或缺的一部分,从小到手机,大到电脑,再到现在正在研发的人工智能,这一切的一切都需要一个东西,那就是芯片,大家可别小看了这个芯片,要知道先进的芯片制造工艺可不是任何国家都可以掌握的,打个比方,一个7纳米的芯片,边长差不多是1.5厘米左右,而人们要做的就是在这么小体积的芯片里刻上几十亿的晶体管。不过我们都知道,一直以来我国在芯片领域都面临着被卡脖子的情况,对于这样的状况,最近就有一个可喜可贺的消息传来。

  根据新华社6月28日的报道,中国电子科技集团有限公司旗下自主研发的高能离子注入机成功实现了百万电子伏特的高能离子加速,性能达到了国际先进水平,长久以来高能离子注入机在离子注入机领域的研发一直都是一个如“珠穆朗玛峰”般难以逾越的大山。但是现在中国人凭借着自己的智慧翻越了这座“大山”,可以说现在外界对于中国在芯片制造领域的封锁又少了一个。

  芯片的制作工艺相当有难度,曾经有不少人表示,想要研究出先进的芯片制造工艺,其难度甚至比制造原子弹的难度还要高,所以这也导致了到目前为止,能真正制作出先进芯片的国家基本上寥寥无几,而且制作芯片所需要的顶级光刻机设备,目前全球也只有荷兰的ASLM一家公司可以制作得出来,所以在这一方面荷兰一直垄断着整个光刻机的市场。

  但是还有一个设备在制作芯片的过程中也担负着举足轻重的位置,那就是高能离子注入机,可能大多数人都只听说过光刻机,对于高能离子注入机不是特别的熟悉,那么我先来给大家简单介绍一下高能离子注入机的作用吧。首先我们要知道,高能离子注入机在芯片制作的过程中其重要程度和光刻机其实是一样的,可以说这两个设备无论少了哪一个,那么芯片都制造不出来。

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